โฟโต้มาสก์ 4 นิ้ว

Zhixing มีประสบการณ์มากมายในการผลิต Photomask ขนาด 4 นิ้ว เรามีโรงงานผลิตและแปรรูปของเราเอง ราคาเป็นกันเอง และเรารองรับการปรับแต่งขนาดต่างๆ ในขณะที่รับประกันความแม่นยำสูง เพื่อตอบสนองทุกความต้องการของลูกค้า ยินดีให้คำปรึกษา หวังว่าจะได้ร่วมงานกับคุณ

Photomask ขนาด 4 นิ้วเป็นอุปกรณ์ที่สำคัญมากในอุตสาหกรรมออพติคัล ซึ่งส่วนใหญ่ใช้ในกระบวนการผลิตและการผลิตอุปกรณ์ออพติคอล ช่วงการใช้งานของมาส์กเวอร์ชันกว้างมาก ครอบคลุมหลายสาขา เช่น อิเล็กทรอนิกส์ เซมิคอนดักเตอร์ ออพติก และเคมี เทคโนโลยี Photomask ขนาด 4 นิ้วช่วยให้สามารถผลิตความแม่นยำในการผลิตระดับไมครอนและแม่แบบคุณภาพสูง ซึ่งให้การสนับสนุนที่สำคัญสำหรับการพัฒนาอุตสาหกรรมด้านการมองเห็น

ในด้านอิเล็กทรอนิกส์ หน้ากากรุ่นส่วนใหญ่จะใช้ในการผลิตส่วนประกอบไมโครอิเล็กทรอนิกส์ต่างๆ ในผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์ เช่น ทรานซิสเตอร์ วงจรรวม ชิป LED และอื่นๆ ด้วยเทคโนโลยีแผ่นมาส์ก ทำให้สามารถบรรลุความแม่นยำในการผลิตระดับไมครอน ทำให้กระบวนการผลิตชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์มีความประณีตและมีประสิทธิภาพมากขึ้น และปรับปรุงกำลังการผลิตและคุณภาพผลิตภัณฑ์ของอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ได้อย่างมาก

ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ Photomask ขนาด 4 นิ้วยังเป็นอุปกรณ์ที่ขาดไม่ได้เช่นกัน ชิปเซมิคอนดักเตอร์เป็นหนึ่งในองค์ประกอบพื้นฐานในวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีสมัยใหม่ และแผ่นมาส์กเป็นเครื่องมือการผลิตที่ขาดไม่ได้ในกระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ Photomask ขนาด 4 นิ้วสามารถตระหนักถึงการประมวลผล "ในท้องถิ่น" และการเติบโตของชิปเซมิคอนดักเตอร์ ทำให้การผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์มีประสิทธิภาพและการขัดเกลามากขึ้น และปรับปรุงกำลังการผลิตและคุณภาพผลิตภัณฑ์ของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

ในอุตสาหกรรมด้านการมองเห็น หน้ากากรุ่นส่วนใหญ่จะใช้ในการผลิตอุปกรณ์ด้านแสงที่มีความแม่นยำสูง เช่น แผงโซลาร์เซลล์ ฟิล์มป้องกันแสง และอื่นๆ เทคโนโลยีแผ่นมาส์กสามารถควบคุมรูปร่าง ขนาด ความหนา และพารามิเตอร์อื่นๆ ของอุปกรณ์ออปติคัลได้อย่างละเอียด ผลิตอุปกรณ์ออพติคัลคุณภาพสูง และทำให้อุตสาหกรรมออพติคัลเติบโตแข็งแกร่งขึ้นเรื่อยๆ

เทคโนโลยีแผ่นมาส์กยังใช้กันอย่างแพร่หลายในสาขาเคมี ในการผลิตสารเคมี แผ่นมาส์กสามารถบรรลุการผลิตที่มีความแม่นยำระดับไมครอน การผลิตวัสดุคอมโพสิตคุณภาพสูง รีเอเจนต์เคมี ผลิตภัณฑ์ยา และผลิตภัณฑ์อื่น ๆ มีส่วนสำคัญต่อการพัฒนาอุตสาหกรรมเคมี

โดยสรุป ช่วงการใช้งานของแผ่นมาส์กในอุตสาหกรรมออพติคัลนั้นกว้างมาก และสามารถบรรลุความแม่นยำในการผลิตระดับไมครอน ซึ่งส่งเสริมการพัฒนาคุณภาพสูงของอุตสาหกรรมออพติคัล ด้วยความก้าวหน้าอย่างต่อเนื่องของวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี เทคโนโลยีหน้ากากก็ได้รับการปรับปรุงและปรับปรุงอย่างต่อเนื่อง ทำให้เกิดพื้นที่การพัฒนาที่กว้างขึ้นสำหรับการพัฒนาอุตสาหกรรมการมองเห็นในอนาคต

คุณสมบัติ:

ตารางแสดงเฉพาะผลิตภัณฑ์บางอย่างเท่านั้น หากคุณต้องการผลิตภัณฑ์อื่น

คุณสามารถปรึกษาฝ่ายบริการลูกค้าได้

การแสดงทางกายภาพของผลิตภัณฑ์การพิมพ์หินโฟโตมาสก์แก้ว

กระบวนการประดิษฐ์:

(1) วาดไฟล์โครงร่างเรติเคิลมาสก์ (รูปแบบ GDS) ที่อุปกรณ์สร้างสามารถรับรู้ได้

2) ใช้เครื่องพิมพ์หินแบบไม่สวมหน้ากากเพื่ออ่านไฟล์เลย์เอาต์ ดำเนินการรับแสงแบบไม่สัมผัส (ความยาวคลื่นแสง 405 นาโนเมตร) บนเรติเคิลเปล่าด้วยกาว และส่องสว่างบริเวณรูปแบบที่ต้องการบนเรติเคิลเพื่อสร้างสารต้านทานแสงในบริเวณนี้ (โดยปกติจะเป็นกาวที่เป็นบวก) จะเกิดปฏิกิริยาโฟโตเคมีคอล

3) หลังจากพัฒนาและแก้ไขแล้ว สารต้านทานแสงในบริเวณที่สัมผัสจะละลายและหลุดออก เผยให้เห็นชั้นโครเมียมที่อยู่ด้านล่าง

4) ใช้สารละลายการกัดโครเมียมสำหรับการกัดแบบเปียก กัดชั้นโครเมียมที่สัมผัสออกเพื่อสร้างพื้นที่ส่งผ่านแสง และชั้นโครเมียมที่ป้องกันโดยโฟโตรีซิสต์จะไม่ถูกแกะสลัก ทำให้เกิดพื้นที่ทึบแสง ด้วยวิธีนี้ โครงสร้างรูปแบบระนาบที่มีการส่องผ่านแสงที่แตกต่างกันจะถูกสร้างขึ้นบนเส้นเล็ง

5) หากจำเป็น ให้ใช้วิธีการเปียกหรือแห้งเพื่อเอาชั้นโฟโตรีซิสต์บนเรติเคิลออก และทำความสะอาดเรติเคิล

ใบรับรอง